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PLUTO-E100型科研型等離子體干法刻蝕（ICP/CCP）系統(tǒng)是一款低成本，適合于科研機構實驗室的桌面型科研設備，整套系統(tǒng)的目的是在4寸以及以下的樣品上進行干法刻蝕。該系統(tǒng)包括反應腔室，真空系統(tǒng)，RF射頻系統(tǒng)，反應氣路系統(tǒng)，電器控制，軟件程序等幾個子系統(tǒng)。